컨트롤러부 VK-X1000

모델

VK-X1000

종류

컨트롤러부

종합 배율

~28,800 배^*1

시야 (최소 시야 범위)

11 µm~7,398 µm

프레임 레이트 (레이저 측정 속도)

4~125 Hz, 7,900 Hz^*2

측정 원리

광학계

핀홀 공초점 광학계, 포커스 배리에이션

수광 소자

16 bit 센싱 포토멀티플라이어, 초고해상도 컬러CMOS

스캔 방식
(일반 측정 시 및 화상 연결 시)

자동 상하한 설정 기능, 고속 광량 최적화 기능 (AAGⅡ) , 반사 광량 부족 보완 기능 (더블 스캔)

높이 측정

표시 분해능

0.5 nm (VK-X1100) , 5 nm (VK-X1050)

리니어 스케일

다이내믹 레인지
(대상 물체로부터의 수광량 적응 폭)

16 bit

반복 정도 σ

레이저 공초점

20 x : 40 nm, 50 x : 12 nm (VK-X1100)
20 x : 40 nm, 50 x : 20 nm (VK-X1050)

포커스 배리에이션

5 x : 500 nm, 10 x : 100 nm, 20 x : 50 nm, 50 x : 20 nm (VK-X1100)
5 x : 500 nm, 10 x : 100 nm, 20 x : 50 nm, 50 x : 30 nm (VK-X1050)

높이 데이터 취득 범위

70 만 스텝

정확도

0.2 + L/100 µm 이하 (L = 측정 길이 µm)^*3

폭 측정

표시 분해능

1 nm (VK-X1100) ,10 nm (VK-X1050)

반복 정도 3σ

레이저 공초점

20 x : 100 nm, 50 x : 40 nm (VK-X1100)
20 x : 100 nm, 50 x : 50 nm (VK-X1050)

포커스 배리에이션

5 x : 400 nm, 10 x : 400 nm, 20 x : 120 nm, 50 x : 50 nm (VK-X1100)
5 x : 400 nm, 10 x : 400 nm, 20 x : 120 nm, 50 x : 65 nm (VK-X1050)

정확도

측정값의 ±2 % 이내^*3

XY스테이지구성

수동 가동 범위

70 mm x 70 mm

전동 가동 범위

100 mm x 100 mm

관찰

관찰 화상

초고해상도 컬러CMOS 화상, 16 bit 레이저 컬러 공초점 화상, 공초점 + ND 필터 광학계, C - 레이저 미분 간섭 화상

조명

링 조명, 동축 낙사 조명

측정용 레이저 광원

파장

자색 반도체 레이저 404 nm (VK-X1100)
적색 반도체 레이저 661 nm (VK-X1050)

최대 출력

1 mW

레이저 등급

2 등급 레이저 제품 (KS C IEC60825-1)

전원

전원 전압

100~240 VAC, 50/60 Hz

소비 전류

150 VA

중량

약 3.0 kg